广州新魅实验室设备有限公司是一家专业从事实验室整体规划、设计、生产、安装及服务为一体的专业实验室建设公司。 

面对科技进步的日新月异，“新魅”秉承“绿色、科技、安全、舒适”的建设理念，以质量为根本，以创新求发展，以诚信树品牌，与众多跨国公司建立长久合作关系，始终引领行业发展潮流。 

    实验室规划设计、实验室家具工程、智能化系统、通风系统、洁净系统、纯水系统、供气系统、水电系统、装饰装修等。主要产品有：实验边台、中央台、仪器台、天平台、不锈钢台、超净工作台、高温台、通风柜、气瓶柜、药品柜、样品柜、试剂柜、器皿柜、文件柜、病理取材台、滴水架、洗眼器、万象排烟罩、原子吸收罩、传递窗、高效送风口、风淋室、洁净棚、新风柜等。 

    “新魅”的营销服务体系已覆盖全国30多个省、市、自治区，先后与CDC、质检、高校、科研、医药、石油、化工、食品、烟草、化妆品、生物科技、医疗器械、汽车、光学、光电等40多个行业。 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳湿度范围为35—45%。