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一、半导体清洗用超纯水设备概述

半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和EDI以及抛光树脂模组技术，保证设备的质量和出水水质。应用杜笙MB-115抛光树脂可以保证稳定出水在17兆欧以上;应用杜笙MB-106UP，可以保证稳定出水在18.25兆欧以上。

二、半导体清洗用超纯水设备工作原理

EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25)的纯水。

三、半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)。

四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

高品质显像管、萤光粉生产。

汽车、家电表面抛光处理。

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