UV光解除臭也叫光催化除臭原理：主要是紫外线照射二氧化钛，产生自由基将臭味分子分解，纳米级锐钛型二氧化钛（TiO2），作为一种新的光催化半导体材料，特点是利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体，如氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC类、苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧。因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。众所周知，臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它感激性异味有立竿见影的清除效果。有机恶嗅气体通过本区后，净化运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧氧化反应。

二、UV光催化设备的特点：
    1、UV光催化设备能高效去除挥发性有机物、硫化氢、氨气等无机物类污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率最高可达99%以上，脱臭效果大大优于国家颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93)
    2、UV光催化设备可适应于绝大部分高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，通过合理的模块配置可广泛应用于：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾中转站、污水泵房、中央空调等恶臭气体的脱臭灭菌净化处理。可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
    3、UV光催化设备无任何机械装置，无运动噪音，无需专人管理和日常维护，只需要作定期检查维护，维护和能耗成本低，风阻极低，可节约大量排风动力能耗，达到节能的目的。
    4、UV光催化设备采用光解原理，采取了隔爆处理，消除了安全隐患、防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，特别适用于高浓度易燃易爆废气的场合。
    5、UV光催化设备无需恶臭气体进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理。
    6、UV光催化设备可根据风量及气体浓度的大小，进行灵活配置，采用抽屉式插拔安装形式，配件统一，安装及维护方便。备件可在线维护和更换，方便灵活。