英特尔工厂节水项目再利用率超93%

    囿于美国的对华技术出口限制，全球最大的半导体芯片制造商英特尔公司尚无法把最先进的晶圆厂设在中国，但是这不妨碍它们先把最先进的节水和环保技术应用到中国工厂来。

    10月26日正式投产的大连F68工厂是英特尔在亚太地区建立的首个晶圆厂，这个工厂量产的65纳米级别芯片比美国工厂最先进的90纳米芯片低了两级，但这是英特尔最新的芯片厂，全球其他7家芯片厂的施工经验都可以被吸收和继承，这让这间工厂在节水和环保技术的应用方面领先于英特尔其它工厂。

    2009年，大连工厂环保项目在英特尔全球50多个项目的竞争中，获得了公司内部的最高奖—年度环保金奖。英特尔大连F68工厂的厂长KirbyJefferson透露，在F68总额25亿美元的投资中，至少有1%，即2500万美元被专门用于环保技术和设备的开支上。

    这其中最主要的，则是对水的节约，以及对废水的处理和再利用。每制成一块标准的酷睿2芯片需要消耗近38升水—这是F68工厂能够达到的新标准。考虑到芯片小巧的体积，这仍然是个让人惊讶的数字。

    沙子之所以形成，在于海水在漫长的岁月里对石灰岩不停地冲刷；而把沙子制成芯片，同样需要水的冲刷，区别可能只在于时间不需要那么久而已。

    芯片生产的几乎每个主要工艺环节都会用到水进行清洗和冲刷。

    半导体的基础材料是以二氧化硅形式存在的硅元素，而二氧化硅主要来自于沙子，芯片的生产就从提纯沙子中的二氧化硅开始。对沙子进行多次提纯可以得到电子级硅（EGS），只有纯净到每10亿个硅原子中最多只有一个杂质原子的程度，才能用于芯片生产，达到要求的单晶体就是硅锭，呈谷仓一样的圆柱形。