我公司于2010年9月17日向中华人民共和国国家知识产权局申报了5项实用新型专利，分别为真空多弧离子镀膜机，电阻式真空蒸发镀膜机，真空磁控溅射镀膜机，真空电子枪镀膜机和真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机；以及1项发明专利真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机。发明专利真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机已于2011年1月26日进入实质审查阶段。另5项实用新型专利国家知识产权局已于2010年12月29日下发授权实用新型专利权通知书，待我公司严格按照办理登记手续通知书的规定办理登记手续后，国家知识产权局于2011年4月13日作出授予实用新型专利权的决定，并且颁发了实用新型专利证书，同时予以登记和公告。
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